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EUV 光刻
光刻设备、High-NA 的导入与设备供应链。
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三星和ASML扩大战略合作以推进下一代半导体制造
三星和ASML正在扩大他们的战略合作,以开发下一代半导体制造技术,包括用于DRAM制造的高数值孔径EUV。
技术发布
2026-09-08 23:03
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